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Attrezzature compatte per la realizzazione di cliché e timbri in fotopolimero

 

Queste attrezzature, dotate di doppio sistema di esposizione (cassetto esposizione con vetri e cassetto esposizione con piano aspirante), sono particolarmente studiate per la realizzazione di cliché e timbri sia con fotopolimero liquido, che con fotopolimero in lastra.

Un apposito scomparto riscaldato permette di mantenere il polimero liquido alla temperatura ideale per ottenere ottimi risultati.

 

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Dimensioni e peso:

cm 52x46x124, peso kg 78 (TX-300); cm 67x56x127, peso kg 117(TX-500)

Alimentazione:

220V 50Hz (o 220V 60Hz, 110V 60Hz)

Assorbimento massimo:

2.800W

Formato lastra:

cm 25x35, netto cm 21x30 (TX-300); cm 35x50, netto cm 30x42 (TX-500)

Piastra porta-cliché:

In acciaio inox con elastomero speciale adesivo.

Vasca acqua:.

In acciaio inox, con regolazione automatica temperatura acqua da quadro di comando. Riscaldamento acqua con resistenza da 500W.

Piano esposizione resina:

Con due cristalli per doppia esposizione, sistema vuoto su cristallo inferiore e sistema anti-bolle a getto d’aria.

Piano esposizione negativi o lastre:

Con telo diffusore e pompa per vuoto.

Lampade esposizione:

2 serie da 6 lampade UV (TX-300); 2 serie da 8 lampade UV (TX-500)

Essiccazione:

1 cassetto di essiccazione con termoventilatore da 1.000W. Temperatura e tempi di essiccazione programmati e controllati da microprocessore elettronico.

Compartimento resina:

Con termoventilatore da 1.000W. Temperatura di riscaldamento resina programmata e controllata da microprocessore elettronico.

 

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